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合金材料-溅射靶材产品
作者:admin 点击:514次 日期:2016-12-09    [] [] []

半导体及封装行业用溅射靶材
Sputtering targets for Semiconductor Industry
·高纯镍合金溅射靶材 High purity nickel alloy sputtering targets

高纯镍及镍合金靶材是制造半导体芯片硅化物过程的关键材料,在半导体二极管、金属氧化物场效应管以及集成电路等领域具有广泛的应用,应用范围涉及通信、汽车、计算机及便携式电器、工业、航天、家电等各种领域。

·贵金属溅射靶材(AuPtPrecious metals sputtering targets(Au Pt)

 

磁记录用溅射靶材
Sputtering targets for Data Storage systems
·高纯钌溅射靶材 High purity ruthenium sputtering targets
·钴铂 / 铁铂系溅射靶材 Cobalt-Platinum/Iron-Platinum sputtering targets

本公司以磁记录用钌靶、钴铬铂二氧化硅靶、钴铬铂硼靶材为突破口,依托公司完善的贵金属回收提纯技术、材料制备加工以及贵金属贸易的经验,经过近年来的攻关研究,已经成为国内首家能够成功制备磁记录用溅射靶材的公司。制备的钌靶已经通过了世界知名磁记录公司的产品质量认证。本公司具有完善的残靶回收技术,能够制备出满足客户不同需求的高品质大尺寸钌溅射靶材。

 

光伏太阳能用溅射靶材
Sputtering targets for Photovoltaic devices
·高纯钼溅射靶材 High purity molybdenum sputtering targets
·铜铟镓硒溅射靶材 CIGS sputtering targets

 

 

 

平面显示及玻璃行业用溅射靶材
Sputtering targets for Flat Panel Displays and Glass industry
·高纯银溅射靶 High purity silver sputtering targets
·钼合金溅射靶材 Molybdenum alloy sputtering targets

 

 

 

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