主要从事稀贵金属溅射靶材的应用基础研究，半导体领域用溅射靶材及功能薄膜应用研究及产品开发，信息存储领域用溅射靶材及功能薄膜应用研究及产品开发，贵金属表面改性技术，贵金属新合金及复合材料等研究工作。研究室现有人员24名，其中专职研究人员9名，技术人员15名，其中博士3名、硕士6名，正高级职称3名，副高级职称1名，博士生导师1名，硕士生导师3名。

目前，研究室发表核心期刊论文138篇，其中SCI/EI收录73篇；申请国家发明专利55项，授权27项；起草行业标准、企业标准共12项, 发布实施6项；先后荣获云南省技术发明一等奖等省部级科技奖励4项。研制的镍铂靶材实现了替代进口并出口美国著名半导体公司，作为云南省科技成果转化典型先后被国家博物馆和中国共产党历史展览馆收藏，先进事迹先后被多家主流媒体报道。